[发明专利]图案形成方法有效
| 申请号： | 201610454609.5 | 申请日： | 2016-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN106292205B | 公开（公告）日： | 2020-12-18 |
| 发明（设计）人： | 野田国宏;千坂博树;盐田大 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种图案形成方法，所述图案形成方法中，在使用包含碱性填料及/或碱性聚合物的感光性组合物、利用光刻法在基板上形成经图案化的膜时，能够以几乎不残留显影残渣的方式进行曝光后的显影。本发明的解决手段为，在使用包含碱性填料及/或碱性聚合物的感光性组合物、利用光刻法在基板上形成经图案化的膜时，在曝光后的显影中使用下述显影液，所述显影液含有包含非质子性极性有机溶剂的有机溶剂作为溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
图案形成方法，所述图案形成方法包括以下工序：将含有碱性填料及/或碱性聚合物的感光性组合物涂布到基板上而形成涂布膜的工序；位置选择性地将所述涂布膜曝光的工序；和利用显影液使曝光后的所述涂布膜显影的工序，所述显影液中含有的溶剂为包含非质子性极性有机溶剂的有机溶剂。
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