[发明专利]磁屏蔽膜及其制备方法

摘要

本发明涉及屏蔽技术领域，公开了一种磁屏蔽膜及其制备方法，该磁屏蔽膜具有层状结构，包含至少两个第一软磁层以及至少一个夹设于第一软磁层的第二软磁层，其中，第一软磁层包含聚氨酯类聚合物以及填充于聚氨酯类聚合物中的软磁填料，软磁填料在频率小于第一预设频率时具有较高磁导率；第二软磁层包含软磁类材料，软磁类材料在频率大于第二预设频率时具有较高的磁导率。本发明通过在磁屏蔽膜设置第一软磁层、第二软磁层，使得该磁屏蔽膜可以在第一预设频率和第二预设频率的环境下都具有较高的导磁性能，应用范围比较广泛。

主权项

一种磁屏蔽膜，具有层状结构，其特征在于，包含至少两个第一软磁层以及至少一个夹设于所述第一软磁层的第二软磁层，其中，所述第一软磁层包含聚氨酯类聚合物以及填充于所述聚氨酯类聚合物中的软磁填料，所述软磁填料在频率小于第一预设频率时具有一预设的磁导率；所述第二软磁层包含软磁类材料，所述软磁类材料在频率大于第二预设频率时具有一预设的磁导率。