[发明专利]一种高压发光二极管芯片的制备方法在审
申请号: | 201610455109.3 | 申请日: | 2016-06-22 |
公开(公告)号: | CN106098863A | 公开(公告)日: | 2016-11-09 |
发明(设计)人: | 马双彪;顾小云;黄龙杰;王江波 | 申请(专利权)人: | 华灿光电(苏州)有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L21/304 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
地址: | 215600 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种高压发光二极管芯片的制备方法,属于半导体技术领领域。所述制备方法包括:在基板上形成N型半导体层、量子阱发光层、P型半导体层、以及透明导电层,并开设延伸至N型半导体层的凹槽;开设从N型半导体层延伸至基板的隔离槽,在部分高压LED芯片之间开设从N型半导体层延伸至基板的切割道;在隔离槽内铺设绝缘层;在绝缘层上形成金属层,并设置N电极和P电极;对电绝缘的高压LED芯片进行测试;当测试结果符合要求时,减薄基板,采用激光在所有高压LED芯片之间开设从N型半导体层延伸至基板的切割道,并沿切割道切割基板,得到相互独立的高压LED芯片。本发明可以满足小尺寸的高压LED芯片的生产要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 高压 发光二极管 芯片 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种高压发光二极管LED芯片的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:在基板上依次生长形成N型半导体层、量子阱发光层、P型半导体层、以及透明导电层,并开设延伸至所述N型半导体层的凹槽;在所有高压LED芯片的各个子芯片之间开设从所述N型半导体层延伸至所述基板的隔离槽,在部分所述高压LED芯片之间开设从所述N型半导体层延伸至所述基板的切割道,形成部分电绝缘的所述高压LED芯片;在所述隔离槽内铺设绝缘层;在所述绝缘层上形成连接同一个所述高压LED芯片相邻的所述子芯片的金属层,并在所述N型半导体层上设置N电极,在所述P型半导体层上设置P电极;对电绝缘的所述高压LED芯片进行测试,得到测试结果;当所述测试结果符合要求时,减薄所述基板,采用激光在所有所述高压LED芯片之间开设从所述N型半导体层延伸至所述基板的切割道,并沿所述切割道切割所述基板,得到相互独立的所述高压LED芯片。
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