[发明专利]一种聚芳醚腈/氮化硼复合薄膜及其制备方法在审
申请号: | 201610455331.3 | 申请日: | 2016-06-21 |
公开(公告)号: | CN106084261A | 公开(公告)日: | 2016-11-09 |
发明(设计)人: | 刘孝波;孔祥建;杨瑞琪 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18;C08L71/10;C08K9/04;C08K9/06;C08K3/38 |
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地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种聚芳醚腈/氮化硼复合薄膜及其制备方法。聚芳醚腈/氮化硼复合薄膜中氮化硼含量为1~40wt%,制备方法为在溶液中将氮化硼由表面改性剂改性,得到表面改性氮化硼;在溶液状态下,将聚芳醚腈与表面改性氮化硼混合;混合后通过添加或蒸除溶剂的方法调节混合液浓度得到聚芳醚腈/氮化硼流延液;将流延液过滤后在干净平整表面均匀流延成膜;挥发掉溶剂后获得专利所述聚芳醚腈/氮化硼复合薄膜。所得聚芳醚腈/氮化硼复合薄膜具有良好的导热、介电性能,复合薄膜制备工艺简单、可靠,适于工业化大规模生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 聚芳醚腈 氮化 复合 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种聚芳醚腈/氮化硼复合薄膜,其特征在于薄膜中氮化硼含量为1~40wt%。
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