[发明专利]相移光栅制作方法及相移光栅有效
| 申请号： | 201610457371.1 | 申请日： | 2016-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN106094085B | 公开（公告）日： | 2019-07-02 |
| 发明（设计）人： | 郭海侠;尚飞;纪家秋 | 申请（专利权）人： | 青岛海信宽带多媒体技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 张洋;黄健 |
| 地址： | 266555 山东省青*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提供一种相移光栅的制作方法，该方法包括：在基板上形成第一层模板；根据预设的掩模版对第一层模板进行光刻，将第一层模板割裂成多个分离的第一凸台，第一凸台之间的第一缝隙底部为暴露的基板；在第一凸台的外表面及基板暴露的表面形成第二层模板；对第二层模板进行刻蚀，将第二层模板割裂成多个分离的第二凸台；第一凸台位于相邻的第二凸台之间；去除第一凸台；在第二凸台之间的空隙涂覆光刻胶，形成第一光刻胶软模板；对第一光刻胶软模板进行全息曝光及显影，在第一光刻胶软模板上形成第二缝隙，将第二缝隙底部的基板暴露出来；对基板中暴露出来的部分进行刻蚀并刻蚀去掉第二凸台形成光栅。本发明实施例提供的相移光栅制作方法效率较高。 | ||
| 搜索关键词： | 相移 光栅 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种相移光栅制作方法，其特征在于，包括：在基板上形成第一层模板；利用预设的掩模版通过光刻将掩模版图形转移至所述第一层模板上淀积的刻蚀掩模上，并利用刻蚀技术将所述刻蚀掩模上的图形转移到第一层模板上，以使所述第一层模板割裂成多个分离的第一凸台，所述第一凸台之间的第一缝隙底部为暴露的基板；在所述第一凸台的外表面及所述基板暴露的表面形成第二层模板；对所述第二层模板进行刻蚀，将所述第二层模板割裂成多个分离的第二凸台；所述第一凸台位于相邻的所述第二凸台之间；去除所述第一凸台；在所述第二凸台之间的空隙涂覆光刻胶，形成第一光刻胶软模板；对所述第一光刻胶软模板进行全息曝光及显影，在所述第一光刻胶软模板上形成至少一条第二缝隙，将所述第二缝隙底部的基板暴露出来；对所述基板中暴露出来的部分进行刻蚀，并刻蚀去掉所述第二凸台，形成光栅。
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