[发明专利]增加ESD保护的LED芯片及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201610458487.7 申请日: 2016-06-23
公开(公告)号: CN105932034B 公开(公告)日: 2019-02-19
发明(设计)人: 邬新根;陈凯轩;李俊贤;张永;李小平;陈亮;魏振东;周弘毅;黄新茂;蔡立鹤 申请(专利权)人: 厦门乾照光电股份有限公司
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;H01L33/00
代理公司: 扬州市锦江专利事务所 32106 代理人: 江平
地址: 361000 福建省厦*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 增加ESD保护的LED芯片及其制造方法,涉及LED的生产技术领域。本发明在P极焊盘和第一绝缘层之间的透明导电层上设置图形化的a‑Si层;在部分第一绝缘层和部分图形化的a‑Si层上设置图形化的Drain极层;在透明导电层和另一部分图形化的a‑Si层设置图形化的Source极层;在透明导电层和图形化的Source极层、裸露的a‑Si层、部分图形化的Drain极层上设置第二绝缘层。本发明为可极大提升芯片ESD防护效果,为目前正装结构芯片提供一种具有ESD防护功能结构,该结构相对传统的齐纳二极管组方式更为简单,易于生产,也利于降低生产成本。
搜索关键词: 增加 esd 保护 led 芯片 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种增加ESD保护的LED芯片,包括外延设置在衬底上的具有上台阶面和下台阶面的N型层,在N型层的上台阶面上依次设置有源层、P型层和透明导电层,在部分透明导电层上设置P极焊盘;在N型层的部分下台阶面上和另一部分透明导电层上,以及两者之间的P型层、有源层、N型层侧面设置第一绝缘层;在P极焊盘和第一绝缘层之间的透明导电层上设置图形化的a‑Si层;在部分第一绝缘层和部分图形化的a‑Si层上设置图形化的Drain极层;在透明导电层和另一部分图形化的a‑Si层设置图形化的Source极层;在透明导电层和图形化的Source极层、裸露的a‑Si层、部分图形化的Drain极层上设置第二绝缘层;在第二绝缘层和裸露的N型层的下台阶面上,以及两者之间的第一绝缘层、图形化的Drain极层上设置N极焊盘;在图形化的a‑Si层和透明导电层之间、在图形化的Source极层和透明导电层之间分别设置反射层。
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