[发明专利]一种黄绿光发光二极管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610458914.1 申请日: 2016-06-22
公开(公告)号: CN106025023B 公开(公告)日: 2019-04-12
发明(设计)人: 曹敏;王世俊;邢振远;李彤;董耀尽 申请(专利权)人: 华灿光电(苏州)有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/14;H01L33/30;H01L33/00
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 徐立
地址: 215600 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种黄绿光发光二极管及其制备方法,属于半导体技术领域。所述黄绿光发光二极管包括N型GaAs衬底、以及依次层叠在N型GaAs衬底上的N型GaAs缓冲层、N型反射层、N型AlInP限制层、多量子阱层、P型AlInP限制层、P型GaP电流扩展层、P型GaP欧姆接触层,多量子阱层包括交替层叠的AlGaInP量子阱层和AlGaInP量子垒层,多量子阱层中均匀插入有多层空穴激发层,空穴激发层包括依次层叠的第一电子阻挡层、第二电子阻挡层、第三电子阻挡层,第一电子阻挡层和第三电子阻挡层均为非掺杂的AlInP层,第二电子阻挡层为P型掺杂的AlInP层。本发明提高发光二极管的发光效率。
搜索关键词: 一种 黄绿 发光二极管 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种黄绿光发光二极管,所述黄绿光发光二极管包括N型GaAs衬底、以及依次层叠在所述N型GaAs衬底上的N型GaAs缓冲层、N型反射层、N型AlInP限制层、多量子阱层、P型AlInP限制层、P型GaP电流扩展层、P型GaP欧姆接触层,所述多量子阱层包括交替层叠的AlGaInP量子阱层和AlGaInP量子垒层,其特征在于,所述多量子阱层中均匀插入有多层空穴激发层,所述空穴激发层包括依次层叠的第一电子阻挡层、第二电子阻挡层、第三电子阻挡层,所述第一电子阻挡层和所述第三电子阻挡层均为非掺杂的AlInP层,所述第二电子阻挡层为P型掺杂的AlInP层。
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