[发明专利]一种镭雕镀金方法有效

专利信息
申请号: 201610459802.8 申请日: 2016-06-22
公开(公告)号: CN106169647B 公开(公告)日: 2019-05-28
发明(设计)人: 宗少锋 申请(专利权)人: 深圳市信维通信股份有限公司
主分类号: H01Q1/38 分类号: H01Q1/38;C23C18/42
代理公司: 深圳市博锐专利事务所 44275 代理人: 张明
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种镭雕镀金方法,在镭雕区域镀完铜、镍后,把需要镀金的区域再次进行镭雕,然后依次镀铜、镍和金,使得化镀金区域具有可选择性,对于镭雕面积很大的产品来说,可以减少镀金面积,大大降低成本,并且由于镀金面积小还可以增加镀金区域的厚度,使得产品性能更好。
搜索关键词: 一种 镀金 方法
【主权项】:
1.一种镭雕镀金方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)在支架上镭雕出走线图形;(2)依次镀铜、镍;(3)浸泡阻镀药剂;(4)去除需要镀金区域阻镀药剂,再次镭雕;(5)在所述需要镀金区域依次镀铜、镍、金;步骤(3)中所述阻镀药剂为无色、透明、绝缘的阻镀药水或者阻镀漆;步骤(5)中所述镀铜厚度为8‑20μm,镀镍厚度为2‑5μm,镀金厚度大于0.05μm;所述需要镀金区域为天线馈点。
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