[发明专利]一种掩膜板及其制备方法、接触孔的制备方法在审
| 申请号： | 201610460937.6 | 申请日： | 2016-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN105867065A | 公开（公告）日： | 2016-08-17 |
| 发明（设计）人： | 张玉虎 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/80 | 分类号： | G03F1/80;G03F1/82 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜板及其制备方法、接触孔的制备方法，以实现提高制备阶梯状的接触孔时精度，从而提高产品良率。所述掩膜板的制备方法，包括：在透明基板上分别形成包括第一图案的第一膜层和包括第二图案的第二膜层，使所述第一膜层仅保留所述第一图案之外的部分，且所述第一图案暴露所述透明基板，以及使所述第二膜层仅保留第二图案，所述第二图案在所述透明基板上的垂直投影落于所述第一图案范围内；其中，所述第一膜层具有第一透光率，所述第二膜层具有与所述第一透光率不相等的第二透光率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 及其 制备 方法 接触 | ||
【主权项】：
一种掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：在透明基板上分别形成包括第一图案的第一膜层和包括第二图案的第二膜层，使所述第一膜层仅保留所述第一图案之外的部分，且所述第一图案暴露所述透明基板，以及使所述第二膜层仅保留第二图案，所述第二图案在所述透明基板上的垂直投影落于所述第一图案范围内；其中，所述第一膜层具有第一透光率，所述第二膜层具有与所述第一透光率不相等的第二透光率。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
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G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
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