[发明专利]一种适用于UV‑CTP的免化学处理阴图感光组合物在审

专利信息
申请号: 201610461162.4 申请日: 2016-06-23
公开(公告)号: CN106054525A 公开(公告)日: 2016-10-26
发明(设计)人: 黎仕友;刘亚林;黄永生;杨志荣 申请(专利权)人: 成都新图新材料股份有限公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610000 四川*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公布了一种适用于UV‑CTP的免化学处理阴图感光组合物,包含:(1)一种-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物,其特征在于,X代表含有磺酸基团的共聚单元,Y代表含有两个不饱和双键的支链的羧酸共聚单元,Z代表含有一个不饱和双键支链的丙烯酸酯共聚单元,和(2)一种可光聚合的预聚体、和(3)一种多官能团单体,和(4)一种或一种以上的光聚合引发剂,和(5)一种或一种以上的染料或颜料。本发明中,使用感光组合物后平印版感光度高、网点还愿性好,在紫外线光源曝光后可直接用自来水冲洗或不经任何冲洗加工步骤即可上机印刷,并可得到高的耐印力。
搜索关键词: 一种 适用于 uv ctp 化学 处理 感光 组合
【主权项】:
一种适用于UV‑CTP的免化学处理阴图感光组合物,其特征在于:它主要包含以下六种组分:(1)一种‑(X)‑(Y)‑(Z)‑结构的不饱和水溶性聚合物,和(2)一种可光聚合的预聚体、和(3)一种多官能团单体,和(4)一种或一种以上的光聚合引发剂,和(5)一种或一种以上的染料或颜料,和(6)一种或一种以上的溶剂;其中,X代表含有磺酸基团的共聚单元,Y代表含有两个不饱和双键的支链的羧酸共聚单元,Z代表含有一个不饱和双键支链的丙烯酸酯共聚单元;所述X选自乙烯磺酸、异戊二烯磺酸,X占共聚物的15%~20%摩尔比。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都新图新材料股份有限公司,未经成都新图新材料股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610461162.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top