[发明专利]沉积掩模和制造沉积掩模的方法在审
| 申请号： | 201610461420.9 | 申请日： | 2016-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN106521411A | 公开（公告）日： | 2017-03-22 |
| 发明（设计）人： | 姜勋;甘范修;张宗燮;全祐奭 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司11204 | 代理人： | 王达佐,王艳春 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了沉积掩模和制造沉积掩模的方法。该方法包括在基构件上形成光刻胶图案，该光刻胶图案具有多个倒锥形光学图案和由光学图案限定的光学开口；在光学开口中以及在光学图案上形成掩模材料层；移除光学图案和形成在光学图案上的掩模材料层，留下形成在光学开口中的掩模材料层；以及移除基构件。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种制造沉积掩模的方法，所述方法包括：在基构件上形成光刻胶图案，所述光刻胶图案具有多个倒锥形的光学图案和由所述光学图案限定的光学开口；在所述光学开口中以及在所述光学图案上形成掩模材料层；移除所述光学图案和形成在所述光学图案上的所述掩模材料层，留下形成在所述光学开口中的所述掩模材料层；以及移除所述基构件。
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