[发明专利]一种上层疏通下层找底的暗挖基坑止水结构及方法有效
申请号: | 201610462959.6 | 申请日: | 2016-06-23 |
公开(公告)号: | CN105908749A | 公开(公告)日: | 2016-08-31 |
发明(设计)人: | 张晋勋;江华;江玉生;单仁亮;董林伟 | 申请(专利权)人: | 北京城建集团有限责任公司;中国矿业大学(北京) |
主分类号: | E02D17/02 | 分类号: | E02D17/02;E02D17/04;E02D31/02 |
代理公司: | 北京汇智胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11346 | 代理人: | 朱登河 |
地址: | 100088 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种上层疏通下层找底的暗挖基坑止水结构及方法,所述止水结构包括:侧面疏通管和排桩间冻结结构,所述侧面疏通管呈矩形分布,并且围绕所述排桩间冻结结构的外侧设置;所述排桩间冻结结构为排桩结构和冻结壁结构呈矩形分布。 | ||
搜索关键词: | 一种 上层 疏通 下层 基坑 止水 结构 方法 | ||
【主权项】:
一种上层疏通下层找底的暗挖基坑止水结构,其特征在于,包括:侧面疏通管和排桩间冻结结构,所述侧面疏通管呈矩形分布,并且围绕所述排桩间冻结结构的外侧设置;所述排桩间冻结结构为排桩结构和冻结壁结构呈矩形分布。
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