[发明专利]形成有铬涂层的气化元件及用铬涂层保护气化元件的方法在审
| 申请号： | 201610462964.7 | 申请日： | 2016-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN107541293A | 公开（公告）日： | 2018-01-05 |
| 发明（设计）人： | 钟大龙;劳伦斯·伯纳德·库尔;陈文兴 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | C10J3/00 | 分类号： | C10J3/00;C10J3/50;C10J3/72 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 侯颖媖 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于气化环境中的气化元件，其包括金属基体以及形成于该金属基体上的涂层，所述涂层在气化操作温度下包括至少51％重量百分比的α铬。本发明还涉及用来保护气化元件以使其免受气化环境侵害的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 涂层 气化 元件 保护 方法 | ||
【主权项】：
一种用于气化环境中的气化元件，该元件包括：金属基体；以及形成于该金属基体上的涂层，所述涂层在气化操作温度下包括至少51％重量百分比的α铬。
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