[发明专利]具有减小的接触面的微机械部件及其制造方法有效
| 申请号： | 201610465132.0 | 申请日： | 2016-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN106276772B | 公开（公告）日： | 2019-06-14 |
| 发明（设计）人： | A·甘德尔曼;A·皮恩 | 申请（专利权）人： | 尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司 |
| 主分类号： | B81B7/00 | 分类号： | B81B7/00;B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 慈戬;吴鹏 |
| 地址： | 瑞士勒*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及具有至少一个减少的接触面的硅基部件，所述硅基部件是由这样的方法形成的：所述方法结合了至少一个倾斜侧壁蚀刻步骤和竖直侧壁“博世”蚀刻，所述硅基部件特别是改进了由微加工硅基片形成的部件的摩擦性能。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 减小 接触面 微机 部件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造硅基微机械部件(51)的方法，所述方法包括以下步骤：a)取用硅基基体(30)；b)在基体(30)的水平部分上形成掩模(33)，所述掩模穿刺有孔(35)；c)在蚀刻腔室内、在基体(30)的部分厚度中，从掩模(33)的孔(35)蚀刻出大体竖直的壁(36)，从而形成微机械部件(51)的外壁；d)在大体竖直的壁(36)上形成保护层(42)，并且，使得在步骤c)中形成的蚀刻体(39)的底部(38)无任何保护层；e)在蚀刻腔室内、在基体(30)的剩余厚度中，从无保护层的底部(38)蚀刻出预先确定的斜壁(37)，从而在微机械部件的外壁下方形成斜的下表面；f)从掩模(33)和基体(30)脱出微机械部件(51)；其中，步骤e)是通过在蚀刻腔室内混合蚀刻气体和钝化气体从而形成斜壁(37)来实现的，其中，在步骤e)中，持续的蚀刻气体流和钝化气体流被脉冲化以增强在蚀刻体(39)底层的蚀刻。
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