[发明专利]一种应用于无氰镀银层的保护剂及其制备方法有效
申请号: | 201610470661.X | 申请日: | 2016-06-23 |
公开(公告)号: | CN106065468B | 公开(公告)日: | 2018-08-03 |
发明(设计)人: | 赵健伟;缪玉霜;谷欣然 | 申请(专利权)人: | 嘉兴学院 |
主分类号: | C23C22/05 | 分类号: | C23C22/05;C25D5/48;C25D3/46 |
代理公司: | 北京翔瓯知识产权代理有限公司 11480 | 代理人: | 朱建新 |
地址: | 314001 浙江省嘉兴市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 一种应用于无氰镀银层的保护剂及其制备方法,该保护剂成分稳定且毒性较低,作用原理是利用具有较强化学吸附能力的直链烷基巯醇类化合物或具有多个吸附位点的聚阳离子覆盖到无氰镀银层表面,隔绝空气中氧气水气,降低银表面变色几率。覆盖层中的分子级空隙利用具有较高流动性的直链烷基醇类或醚类进行填充。在后续的使用过程中,如果遇到保护层的破损,这类物质也具有修复功能。抗氧化作用的化合物,可以吸附到镀银层表面,提升镀层的电势水平,增加抗氧化能力。经过保护剂处理的无氰镀银层表面光亮,抗变色性能大幅提高。满足装饰性电镀和功能性电镀等多领域的应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 应用于 镀银 保护 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种应用于无氰镀银层的保护剂,其特征在于,所述的保护剂包括起覆盖作用的化合物,质量浓度为0.002~2.0 g/L,起流动填充作用的化合物,质量浓度为0.001~0.005 g/L,起电势水平调节作用的化合物,质量浓度为0.001~1.0 g/L,所述的溶剂为乙醇,所述的起覆盖作用的化合物为聚阳离子化合物中的一种或几种。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理,例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
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