[发明专利]检测掩膜板质量的方法在审

专利信息
申请号: 201610470791.3 申请日: 2016-06-24
公开(公告)号: CN105892224A 公开(公告)日: 2016-08-24
发明(设计)人: 王雷 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: G03F1/44 分类号: G03F1/44;G03F7/20
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 丁纪铁
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种检测掩膜板质量的方法,包含如下步骤:步骤1,产生一组测量图形,所述测量图形包括至少两个图形:一个把铬全部去除,露出衬底玻璃基板的图形;以及一个按最小设计规则1:1的铬全部去除,露出衬底玻璃基板的图形;步骤2,以所述测量图形产生一块标准掩膜板,该标准掩膜板包含的测量图形均匀分布在掩膜板曝光范围内;步骤3,使用实际生产用聚焦光束对标准掩膜板的测量图形进行照射,测量其透过率并进行AIMS系统测试确定其在标准CD下的阈值;步骤4,将所述测量图形放置到实际掩膜板中,出厂时对透过率和标准CD下AIMS系统测量的阈值,进行检测并将其和步骤3获得的值进行对比。
搜索关键词: 检测 掩膜板 质量 方法
【主权项】:
一种检测掩膜板质量的方法,其特征在于:包含如下步骤:步骤1,产生一组测量图形,所述测量图形包括至少两个图形:一个把铬全部去除,露出衬底玻璃基板的图形,称之为全开图形;以及一个按最小设计规则1:1的铬部分去除,露出衬底玻璃基板的图形,称之为1:1图形;步骤2,以所述测量图形产生一块标准掩膜板,该标准掩膜板包含的测量图形均匀分布在掩膜板曝光范围内;步骤3,使用实际生产用聚焦光束对标准掩膜板上的测量图形进行照射,测量其透过率并进行AIMS系统测试确定其在标准CD下的阈值;步骤4,将所述测量图形放置到实际掩膜板中,出厂时对透过率和标准CD下AIMS系统测量的阈值,进行检测并将其和步骤3获得的值进行对比。
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