[发明专利]一种制备大尺寸高纯钨钛合金靶材的方法在审
| 申请号： | 201610473417.9 | 申请日： | 2016-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN105986160A | 公开（公告）日： | 2016-10-05 |
| 发明（设计）人： | 张俊敏;闻明;王传军;谭志龙;沈月;毕珺;管伟明;易伟 | 申请（专利权）人： | 贵研铂业股份有限公司 |
| 主分类号： | C22C27/04 | 分类号： | C22C27/04;C22C1/04;C23C14/34;B22F9/22;B22F3/14;B22F1/02;B22F9/08;B22F3/15 |
| 代理公司： | 昆明今威专利商标代理有限公司 53115 | 代理人： | 赛晓刚 |
| 地址： | 650106 云南省昆明市高新*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制备大尺寸高纯钨钛合金溅射靶材的方法，包括高纯钨钛复合粉末的制备，粉末的成型，及钨钛合金靶材机加工。具体为采用纯度大于等于99.95％的钛粉和纯度大于等于99.95％仲钨酸铵为原料，先通过气体雾化法制备得到核壳结构的仲钨酸铵‑钛复合粉，再通过微波煅烧得到核壳结构的氧化钨‑钛复合粉，最后采用通氢还原法得到高纯、超细钨钛复合粉末，用真空热压结合热等静压对制备得到的钨钛复合粉末进行烧结成型得到高纯钨钛合金溅射靶材。使用上述方法制备得到的高纯钨钛靶材纯度大于等于99.99％，钨钛合金溅射靶材由富钨基体相及富钛相组成，富钛相比例小于15％，平均晶粒尺寸不大于50μm，且靶材边缘与靶材中心的晶粒尺寸差别不大于5μm。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 尺寸 高纯 钛合金 方法 | ||
【主权项】：
一种大尺寸高纯钨钛合金溅射靶材，其特征在于：所述的钨钛合金溅射靶材纯度大于等于99.99％，Na含量＜0.3ppm、Ca含量＜0.5ppm、K含量＜0.2ppm、U含量＜0.2ppm、Th含量＜0.1ppm、、Al含量＜0.1ppm，氧含量低于100ppm，钨钛合金溅射靶材由富钨基体相及富钛相组成，富钛相比例小于15％，平均晶粒尺寸不大于50μm，且靶材边缘与靶材中心的晶粒尺寸差别不大于5μm。
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