[发明专利]一种碳炔薄膜及其制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 201610473762.2 申请日: 2016-06-24
公开(公告)号: CN106117521B 公开(公告)日: 2018-02-13
发明(设计)人: 李玉良;贾志宇;刘辉彪 申请(专利权)人: 中国科学院化学研究所
主分类号: C08G61/04 分类号: C08G61/04;C08J5/18
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司11245 代理人: 关畅
地址: 100080 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种碳炔薄膜及其制备方法与应用。该碳炔薄膜为由式I所示化合物构成的碳炔薄膜。该薄膜是由式II所示化合物通过Glaser‑Hay偶联反应而得。本发明提供的制备碳炔薄膜的方法,工艺简便,能够在铜片或者铜薄膜层表面大面积制备碳炔薄膜,其电导率为1.4×10‑2S/m,该薄膜表面均匀,可在空气中稳定存在,采用核磁碳谱、原子力显微镜和拉曼光谱对碳炔化合物的结构组成进行了分析,确定了碳炔的构成。同时,对碳炔薄膜的导电性进行了测量,发现其是一种与接近金属性能的半导体,在催化、电子、半导体、能源和材料等领域具有广阔的应用前景。
搜索关键词: 一种 薄膜 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
式I所示聚合物,所述式I中,n为10‑100000。
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