[发明专利]光罩显影浸润剂及光罩显影方法在审
申请号: | 201610475060.8 | 申请日: | 2016-06-25 |
公开(公告)号: | CN105954984A | 公开(公告)日: | 2016-09-21 |
发明(设计)人: | 杜武兵;林伟;蒋凌飞 | 申请(专利权)人: | 深圳市路维光电股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/32 | 分类号: | G03F7/32;G03F7/30 |
代理公司: | 深圳市翼智博知识产权事务所(普通合伙) 44320 | 代理人: | 肖伟 |
地址: | 518057 广东省深圳市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种光罩显影浸润剂,按质量百分比包括以下组分:除水渍液5~10%;稀释剂3~6%;稳定剂1~3%;以及余量为水。本发明还提供一种光罩显影方法,包括:把光罩膜面向上水平放入上述光罩显影浸润剂中,使液面没过光罩的膜面,浸泡预定时间使显影浸润剂充分浸润光罩;将浸润后的光罩从显影浸润剂中取出,促使光罩表面多余的显影浸润剂流走,在光罩表面形成一层均匀的显影浸润剂液膜;将表面形成有显影浸润剂液膜的光罩平放入显影液中,使光刻胶与显影液充分反应实现显影,直到光罩边缘的显影现象结束为止。本发明显影浸润剂能在光罩表面形成一层均匀的液膜,在显影过程中能有效保证光罩各处的光刻胶均能和显影液充分均匀反应,显影均匀性更好。 | ||
搜索关键词: | 显影 浸润 方法 | ||
【主权项】:
一种光罩显影浸润剂,其特征在于,按质量百分比包括以下组分:除水渍液5~10%;稀释剂3~6%;稳定剂1~3%;以及余量为水。
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