[发明专利]一种西瓜种植方法

摘要

本发明公开了一种西瓜种植方法，所述种子上面再盖上一层湿纱布有利于种子的发芽，所述栽培基质的配方，可以提供西瓜生长所需的营养，基质中加入发酵菌，在基质层上盖上地膜，使基质中养分已被瓜苗吸收，所述提前两天将要栽种的土壤浇透水，可以提高瓜苗的存活率，西瓜开花后的第7天，果实开始迅速膨大时，对西瓜施加尿素和硫酸钾，可以提高西瓜产量、西瓜个头大小，所述西瓜采摘前停止浇水，可以提高西瓜的甜度，本发明可降低成本，节约土地资源，提高土地利用率，增加经济效益，西瓜抗储耐运、个头大、口感好，具有广阔的市场前景。

主权项

一种西瓜种植方法，其特征在于：包括如下步骤：（1）晒种将种子放置于阳光下晒2h，以提高种子发芽能力；（2）浸种晒过的种子用30～36℃的温水浸种6～8小时，然后捞出,搓去种子皮上的粘膜，用800倍液的60%多·福或70%福·甲硫可湿性粉剂再浸4～6个小时，取出用清水冲洗干净药液；（3）催芽把浸好的种子平放在透气滤纸上，放在33～35℃的恒温下催芽；（4）育苗将催芽后的种子，放在育苗盘中于20～22℃环境中育苗，育苗过程中使育苗盘保持湿润；（5）整地选择土壤疏松、透气性好，能排水性能好的土壤，调节土壤的pH，使土壤pH值为6～8，对瓜田进行深耕，开设瓜沟， 所述瓜沟之间设置有宽为40厘米的田埂，并在所述瓜沟内施基质；（6）栽种在基质层上部填充厚度20～40cm的栽培层，所述栽培层为：1 kg鸡粪配0.5～1.5kg土比例混合，在施入时按沟的长度施入0.5～1.5Kg/m的磷酸式盐二铵，将西瓜幼苗种入栽培层中，下种深度3～5cm；（7）整枝在抽蔓期，采用多蔓整枝方式，要把每株所长出的各瓜蔓均匀分开，合理利用阳光，不能重叠，要防止大风刮乱瓜蔓，要压一次蔓，坐果前7天，喷1‑3次硼肥；（8）管理在西瓜蔓长40～50cm时进行中耕除草、培土等工作，移栽后7d施缓苗肥，以氮肥为主，用尿素5kg/亩加水浇施，西瓜生长迅速时需水量比较多，特别是膨大期对水分的需求最为迫切。