[发明专利]一种阵列基板的制造方法及阵列基板

摘要

本发明公开一种阵列基板及其制造方法，其中制造方法包括以下步骤：基板；在基板上形成缓冲层；在缓冲层内形成源极和数据线，同时在缓冲层上形成栅极和栅极线，其中缓冲层至少部分外露源极和数据线的远离基板的一侧；在源极、数据线、栅极以及栅极线上形成绝缘层，其中绝缘层至少部分外露源极和栅极线的远离基板的一侧；在源极上形成半导体层，其中半导体层与源极的外露部分电性连接且与栅极之间由绝缘层电性绝缘；在绝缘层上形成第一像素电极和第二像素电极，其中第一像素电极与半导体层的远离基板的一侧电性连接，第二像素电极与栅极线的外露部分电性连接。本发明阵列基板的制造过程高效且节能。

主权项

1.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括以下步骤：基板；在所述基板上形成缓冲层；在所述缓冲层内形成源极和数据线，同时在所述缓冲层上形成栅极和栅极线，其中所述缓冲层至少部分外露所述源极和所述数据线的远离所述基板的一侧；在所述源极、所述数据线、所述栅极以及所述栅极线上形成绝缘层，其中所述绝缘层至少部分外露所述源极和所述栅极线的远离所述基板的一侧；在所述源极上形成半导体层，其中所述半导体层与所述源极的外露部分电性连接且与所述栅极之间由所述绝缘层电性绝缘；在所述绝缘层上形成第一像素电极和第二像素电极，其中所述第一像素电极与所述半导体层的远离所述基板的一侧电性连接，所述第二像素电极与所述栅极线的外露部分电性连接。