[发明专利]使用选择的熔剂和电化学的激光沉积表面控制在审

专利信息
申请号: 201610480415.2 申请日: 2016-04-21
公开(公告)号: CN106191982A 公开(公告)日: 2016-12-07
发明(设计)人: G·J·布鲁克;A·卡默尔 申请(专利权)人: 西门子能源公司
主分类号: C25F3/16 分类号: C25F3/16;C23C24/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 周铁;林森
地址: 美国佛*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 用于在金属基材(22)上形成平滑金属表面(42)的方法和装置(20)。使金属基材上在熔融的电解质渣(34)的层下固化的熔池(32)经受与熔渣接触的阴极(28)和基材之间的DC电流(12),从而引起表面的阳极整平。可将阴极埋在熔剂材料(26)的层中,所述熔剂材料(26)被横穿基材的激光束(30)熔融。填料材料(24)可以在添加方法中相应地熔融。所述熔剂材料包含电解质、光学透射和降粘成分。
搜索关键词: 使用 选择 熔剂 电化学 激光 沉积 表面 控制
【主权项】:
装置,其包括:激光束(30),当所述激光束(30)横穿过金属基材时其产生金属熔池(32);熔剂(26),所述熔剂(26)在熔池(32)的液体温度下在熔池(32)上形成电解质液体渣(34)并且在激光束(30)横穿时在通过熔池(32)的固化形成的固化的金属上保持为液体;和电路,所述电路包括与液体渣接触的阴极(28)和与基材的连接,其使固化的金属成为阳极(22);其中在液体渣(34)在所述固化的金属上保持为液体时的期间实现了所述固化的金属的表面的阳极整平。
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