[发明专利]一种用于原子力显微镜表征的样品制备方法有效

专利信息
申请号: 201610482237.7 申请日: 2016-06-27
公开(公告)号: CN106199075B 公开(公告)日: 2019-01-22
发明(设计)人: 孙洁林;邵志峰;沈轶 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: G01Q30/20 分类号: G01Q30/20
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提出一种用于原子力显微镜表征的样品制备方法,包括下列步骤:步骤一:将大环分子样品溶解于第一溶剂中,形成均匀分散的大环分子单体溶液;步骤二:将基底放入第二溶剂饱和蒸汽环境,在基底表面加入一定量步骤一所配置大环分子单体溶液;步骤三:将带有上述溶液的基底在第二溶剂饱和蒸汽环境放置孵育一定时间,使大环分子在基底表面自组装形成紧密排列的纳米管单层;步骤四:将上述步骤三所得纳米管样品放置于真空中,使基底表面第一溶剂与第二溶剂充分挥发,使表面大环分子停止动态自组装过程。本发明提出的用于原子力显微镜表征的样品制备方法,具有可获得基底表面紧密排列纳米管单层,更加适用于原子力显微镜高分辨结构表征研究的特点。
搜索关键词: 一种 用于 原子 显微镜 表征 样品 制备 方法
【主权项】:
1.一种用于原子力显微镜表征的样品制备方法,其特征在于,包括下列步骤:步骤一:将大环分子样品溶解于第一溶剂中,形成均匀分散的大环分子单体溶液;步骤二:将基底放入第二溶剂饱和蒸汽环境,在基底表面加入一定量步骤一所配置大环分子单体溶液;步骤三:将带有上述溶液的基底在第二溶剂饱和蒸汽环境放置孵育一定时间,使大环分子在基底表面自组装形成紧密排列的纳米管单层;步骤四:将上述步骤三所得纳米管样品放置于真空中,使基底表面第一溶剂与第二溶剂充分挥发,使表面大环分子停止动态自组装过程。
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