[发明专利]一种掺杂改性的镍金属薄膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种掺杂改性的镍金属薄膜及其制备方法，该方法包含至少一个反应循环，每个反应循环包含以下步骤：S1，向反应腔中通入NiCp₂蒸汽，使其与反应腔中的衬底表面充分反应；S2，向反应腔中通入无氧保护气氛吹洗；S3，向反应腔中通入NH₃等离子体，使其与含有NiCp₂的衬底表面充分发生化学反应；S4，向反应腔中通入无氧保护气氛以将未反应NH₃等离子体及反应副产物吹洗干净，获得掺杂改性的镍金属薄膜；其中，掺杂改性的镍金属薄膜厚度依循环数而定。本发明提供的方法工艺流程简单易控，与集成电路制造工艺兼容性好，生长温度低，生长温度区间大，而且制备的Ni(CN)金属薄膜杂质少，性能可控，薄膜的表面平整度和台阶覆盖好且成分和厚度均匀性好。

主权项

一种掺杂改性的镍金属薄膜的制备方法，其特征在于，该方法包含至少一个反应循环，每个反应循环包含以下步骤：S1，向反应腔中通入NiCp₂蒸汽，使其与反应腔中的衬底表面充分反应；S2，向反应腔中通入无氧保护气氛以将未反应的NiCp₂蒸汽吹洗干净；S3，向反应腔中通入NH₃等离子体，使其与含有NiCp₂的衬底表面充分发生化学反应；S4，向反应腔中通入无氧保护气氛以将未反应NH₃等离子体及反应副产物吹洗干净，获得掺杂改性的镍金属薄膜；其中，掺杂改性的镍金属薄膜厚度依循环数而定。