[发明专利]一种基于萘并茚芴单元的共轭聚合物及其制备方法与应用在审
申请号: | 201610490031.9 | 申请日: | 2016-06-27 |
公开(公告)号: | CN105924629A | 公开(公告)日: | 2016-09-07 |
发明(设计)人: | 应磊;赵森;彭俊彪;杨伟;曹镛 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | C08G61/02 | 分类号: | C08G61/02;C08G61/12;H01L51/54 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 何淑珍 |
地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于萘并茚芴单元的共轭聚合物及其制备方法与应用,萘并茚芴平面性较好,具有较大的荧光量子产率,溶解性比较好,通过Suzuki聚合反应可获得均聚物或共聚物,适合进行溶液加工和印刷显示。本发明所制备的基于萘并茚芴的共轭聚合物可以用于有机发光二极管的发光层。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 单元 共轭 聚合物 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
一种基于萘并茚芴单元的共轭聚合物,其特征在于,化学结构式如下:
式中,R为碳原子数为1‑20的直链或者支链烷基或者烷氧基或H原子或芳基或三苯胺;聚合度n为1‑300。
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