[发明专利]一种低共熔型离子液体中铜及铜合金表面化学镀镍的方法在审

专利信息
申请号: 201610490460.6 申请日: 2016-06-29
公开(公告)号: CN106119815A 公开(公告)日: 2016-11-16
发明(设计)人: 张启波;杨闯;李艳;华一新 申请(专利权)人: 昆明理工大学
主分类号: C23C18/34 分类号: C23C18/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 650093 云*** 国省代码: 云南;53
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种低共熔型离子液体中铜及铜合金表面化学镀镍的方法,属于化学镀镍技术领域。将季铵盐与氢键供体经60~80℃真空干燥后混合,在60~80℃恒温加热条件下,反应30min~5h即能制备得到无色透明的低共融熔溶剂;将镍盐前驱体加入到得到的低共融熔溶剂中配置得到浓度为0.1~3mol/L镍盐‑低共融熔溶剂,充分搅拌至完全溶解后得到翠绿色镀镍液;将待镀工件经过丙酮除油、稀盐酸浸泡、清水冲洗、烘干后加入镀镍液中静置进行恒温施镀即可得到化学镀镍工件。本发明具有廉价、工序简单、生产流程短、无污染,无需活化和敏化等特点。
搜索关键词: 一种 低共熔型 离子 液体 铜合金 表面 化学 方法
【主权项】:
一种低共熔型离子液体中铜及铜合金表面化学镀镍的方法,其特征在于具体步骤如下:(1)将季铵盐与氢键供体经60~80℃真空干燥后按照摩尔比1:(1~6)混合,在60~80℃恒温加热条件下,反应30min~5h即能制备得到无色透明的低共融熔溶剂;(2)将镍盐前驱体加入到步骤(1)得到的低共融熔溶剂中配置得到浓度为0.1~3mol/L镍盐‑低共融熔溶剂,充分搅拌至完全溶解后得到翠绿色镀镍液;(3)将待镀工件经过丙酮除油、稀盐酸浸泡、清水冲洗、烘干后加入步骤(2)得到的镀镍液中静置进行恒温施镀即可得到化学镀镍工件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆明理工大学,未经昆明理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610490460.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top