[发明专利]内嵌式触摸屏及其制作方法、显示装置有效
申请号: | 201610493669.8 | 申请日: | 2016-06-28 |
公开(公告)号: | CN106168865B | 公开(公告)日: | 2019-11-26 |
发明(设计)人: | 詹小舟;孙建;李成 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041;G06F3/044 |
代理公司: | 11105 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 焦玉恒<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种内嵌式触摸屏及其制作方法、显示装置。该内嵌式触摸屏包括衬底基板,以及设置在所述衬底基板上的信号线、触控电极以及与所述触控电极电连接的触控线,其中,所述触控线和所述信号线沿同一方向延伸,所述触控线和所述信号线在垂直于所述衬底基板的方向上至少部分重叠。该内嵌式触摸屏及其制作方法、显示装置用以解决像素开口率低的问题。 | ||
搜索关键词: | 内嵌式 触摸屏 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种内嵌式触摸屏,包括衬底基板,以及设置在所述衬底基板上的信号线、触控电极、与所述触控电极电连接的触控线以及薄膜晶体管,其中,所述触控线和所述信号线沿同一方向延伸,所述触控线和所述信号线在垂直于所述衬底基板的方向上至少部分重叠,所述薄膜晶体管包括有源层、源极和漏极,所述源极与所述信号线同层形成且源极和数据线采用一次构图工艺形成,所述触控线与所述漏极同层形成且触控线和漏极采用一次构图工艺形成,源极和漏极不在同一层中。/n
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