[发明专利]一种In-Cell触控阵列基板及其制造方法

摘要

本发明提供了一种In‑Cell触控阵列基板，包括：一基板，以及在所述基板上依次形成的栅极电极层，栅极绝缘层，半导体层，源漏电极层，第一钝化层，有机绝缘层，共通电极层，第二钝化层，检测线，第三钝化层和像素电极层；其中，在位于所述源漏电极层的漏电极上方的所述第一钝化层和第二钝化层上形成有第一接触孔，所述的源漏电极层的漏电极通过该第一接触孔与所述的像素电极层相连接；所述第二钝化层接触孔的孔径大于所述第一钝化层接触孔的孔径。通过对第一钝化层和第二钝化层的接触孔进行同时蚀刻，使第一接触孔的边缘形成一个缓坡，进而使得像素电极沿第二钝化层形成的缓坡与漏极电极层的漏电极顺利连接，确保像素电极不断裂。

主权项

1.一种In‑Cell触控阵列基板，包括：一基板，以及在所述基板上依次形成的栅极电极层，栅极绝缘层，半导体层，源漏电极层，第一钝化层，有机绝缘层，共通电极层，第二钝化层，检测线，第三钝化层和像素电极层；其中，在位于所述源漏电极层的漏电极上方的所述第一钝化层和第二钝化层上形成有第一接触孔，所述的源漏电极层的漏电极通过该第一接触孔与所述的像素电极层相连接；其中，所述的第一接触孔包括同心的第一钝化层接触孔和第二钝化层接触孔；所述第二钝化层接触孔的孔径大于所述第一钝化层接触孔的孔径，所述第一接触孔内第二钝化层覆盖有机绝缘层和第一钝化层，形成台阶状第一接触孔。