[发明专利]多功能卷绕镀膜设备及方法有效
申请号: | 201610493694.6 | 申请日: | 2016-06-27 |
公开(公告)号: | CN105986235B | 公开(公告)日: | 2018-09-07 |
发明(设计)人: | 朱文廓;朱刚劲;朱刚毅 | 申请(专利权)人: | 广东腾胜真空技术工程有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/30 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 谢静娜;裘晖 |
地址: | 526060 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开一种多功能卷绕镀膜设备及方法,其设备中,真空室的离子处理区上方设置离子处理机构,镀膜区内设置磁控溅射镀膜机构和条形电子发射装置,镀膜区下方设有e型电子枪镀膜机构,镀膜区一侧设有直式电子枪镀膜机构,坩埚设于e型电子枪镀膜机构下方,卷绕机构设于真空室内。其方法是先在真空室中安装e型电子枪镀膜机构、磁控溅射镀膜机构或直式电子枪镀膜机构中的一种,柔性基材通过卷绕机构在真空室内进行输送,通过离子处理机构对柔性基材进行表面处理,再通过已安装好的镀膜机构对柔性基材进行表面镀膜。本多功能卷绕镀膜设备集成度高,设备成本低,占用空间也小,使用灵活而方便。 | ||
搜索关键词: | 多功能 卷绕 镀膜 设备 方法 | ||
【主权项】:
1.多功能卷绕镀膜设备,其特征在于,包括真空室、卷绕机构、离子处理机构、e型电子枪镀膜机构、磁控溅射镀膜机构、直式电子枪镀膜机构和条形电子发射装置,真空室内设有离子处理区和镀膜区,离子处理区上方设置离子处理机构,镀膜区内设置磁控溅射镀膜机构和条形电子发射装置,镀膜区下方设有e型电子枪镀膜机构,镀膜区一侧设有直式电子枪镀膜机构,与直式电子枪镀膜机构相配合的坩埚设于e型电子枪镀膜机构下方,卷绕机构设于真空室内,柔性基材设于卷绕机构上。
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