[发明专利]一种应用于共烧陶瓷技术的超薄生瓷带的制作方法

摘要

本发明公开了一种应用于共烧陶瓷技术的超薄生瓷带的制作方法，属于电子材料与工艺技术领域。本发明采用光刻的图形转移原理，首先在感光胶中均匀分散陶瓷粉料，加入有机溶剂制得感光陶瓷复合溶液；然后通过旋涂工艺使得感光陶瓷复合溶液涂敷在固定的基板上形成均匀、无缺陷的薄膜；在制得的薄膜上覆盖特定掩膜板，经过曝光、显影处理形成目标图形，最后烘干、固化制得生瓷片。本发明制备出的生瓷带厚度小于10μm，解决了传统流延工艺制备的生瓷带膜厚极限的问题，可以实现在相同的器件尺寸下增加布线层数的要求；同时，本发明结合光刻胶材料的图形转移原理，解决了陶瓷生瓷带图形加工工艺问题，可提高组装密度、生产效率和可靠性。

主权项

一种应用于共烧陶瓷技术的超薄生瓷带的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤A：制备感光陶瓷复合溶液；在暗室中，在感光胶中加入陶瓷粉料后分散均匀，使得陶瓷粉料质量百分比含量为50％～90％，然后加入有机溶剂制得感光陶瓷复合溶液，所述有机溶剂质量占总溶液质量不超过50％；步骤B：旋涂制膜；将步骤A制得的感光陶瓷复合溶液旋涂于基板上形成均匀薄膜；步骤C：对位曝光；在暗室中，将掩膜板精准覆盖于步骤B制得薄膜的特定区域上，然后采用高压汞灯、准分子激光器、X射线或电子束照射形成目标图形；步骤D：显影；用显影液沉浸或喷射曝光后的目标图形，使得目标图形显影；步骤E：烘干、固化；将步骤D制得具有目标图形的薄膜经过烘干、固化处理，最终制得具有特定图形、膜厚均匀的超薄生瓷带。