[发明专利]一种激光还原制备多孔石墨烯的方法在审

专利信息
申请号: 201610498703.0 申请日: 2016-06-29
公开(公告)号: CN106206050A 公开(公告)日: 2016-12-07
发明(设计)人: 闵永刚;马寸亮;朱祎祎;冯亚飞;申佳欣 申请(专利权)人: 南京邮电大学
主分类号: H01G11/24 分类号: H01G11/24;H01G11/36;H01G11/86;C01B31/04
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 楼高潮
地址: 210023 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种激光还原制备多孔石墨烯的方法,属于石墨烯超电容材料技术领域。本发明技术方案包括:在氧化石墨烯的溶液中加不同比例的双氧水,然后在基板上涂抹一层较薄的氧化石墨烯层,等待完全风干之后,形成氧化石墨烯薄膜,用激光逐点扫描按照设定的图案还原氧化石墨烯薄膜,即得到不同图案的具有超电容性能的多孔石墨烯。本发明打破了传统制备多孔石墨烯的水热等方法,同时结合了数字化制备技术,推动了石墨烯在电路板领域的应用发展。
搜索关键词: 一种 激光 还原 制备 多孔 石墨 方法
【主权项】:
一种激光还原制备多孔石墨烯的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)以鳞片石墨为原料制备氧化石墨烯,离心得到氧化石墨烯的悬浮液;(2)将步骤(1)得到的氧化石墨烯悬浮液浓缩至粘稠状,然后滴加过氧化氢溶液;(3)将步骤(2)得到的混合粘稠液平铺到耐高温或导电基板上,制备成薄膜;(4)将步骤(3)得到的薄膜用激光器在无氧环境下逐点扫描还原,得到附着在基板上的多孔石墨烯。
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