[发明专利]一种发光二级管的外延结构及其制备方法有效
申请号: | 201610500604.1 | 申请日: | 2016-06-30 |
公开(公告)号: | CN105914276B | 公开(公告)日: | 2018-08-14 |
发明(设计)人: | 展望;马后永;琚晶;游正璋 | 申请(专利权)人: | 映瑞光电科技(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L33/32 | 分类号: | H01L33/32;H01L33/00 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 周乃鑫;苗绘 |
地址: | 201306 上海市浦东新区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开一种发光二级管的外延结构,该外延结构生长在衬底上,该外延结构由靠近衬底一端起依次包含:低温成核层、非故意掺杂GaN层、N型GaN层、发光层和P型GaN层;所述N型GaN层为V/III比率周期性交替变化生长结构,V/III比率为V族元素/III族元素的比率。本发明通过在生长N型GaN层的过程中其V/III比周期性变化,实现改善N型GaN层的结晶质量,LED的反向电压得到明显提升。 | ||
搜索关键词: | 一种 发光 二级 外延 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种发光二级管的外延结构,其特征在于,该外延结构生长在衬底上,该外延结构由靠近衬底一端起依次包含:低温成核层、非故意掺杂GaN层、N型GaN层、发光层和P型GaN层;所述N型GaN层为V/III比率周期性交替变化生长结构,V/III比率为V族元素/III族元素的比率;V/III比率周期性交替变化周期大于等于1,变化方式为:高低、低高交替变化,或者低高、高低交替变化,或一直低高变化,或一直高低变化,或从低到高再从高到低,或从高到低再从低到高变化。
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