[发明专利]一种黄瓜种植方法

摘要

本发明公开了一种黄瓜种植方法，催芽时要经常翻动种子，保证种子的均匀受热，所述当种子的根尖露出后，要地降低温度，将温度保持在24℃，培养3d左右的时间，抑制幼芽继续生长，使芽变得节间短、粗壮，所述育苗前期每亩地施加有机肥、尿素、过硫酸钾和钾肥，较高的养分有利于黄瓜的生长，在弯曲黄瓜瓜条外弯离瓜柄2厘米处，用消毒过的水果刀，沿着圆周绕黄瓜轻划一刀，形成深度3mm的刀口，可以均衡整个瓜条的营养供应，促使弯曲瓜条在后续的生长过程中自然生长、逐渐伸直，在小黄瓜长到11厘米时，摘掉顶花并套上塑料袋子，袋子一端设置套口，另一端设置透气孔，可以降低虫害，保证黄瓜的正常生长，通过上述方式，本发明黄瓜种植方法具有天然无公害、符合生长规律，在黄瓜种植方法的普及上有着广泛的市场前景。

主权项

一种黄瓜种植方，其特征在于：包括如下步骤：（1）选种择优品质好、耐低温、弱光、早熟、刺密、植株长势强但不徒长、抗霜霉病、主蔓结瓜、雌花结位低以及高产的黄瓜品种；（2）苗床准备准备营养苗床要选择适合黄瓜生长的土壤，并根据土壤的情况进行适时的改良，对土壤深耕、细耙、畦直、地平，保证黄瓜的正常生长，混合分解的有机肥堆肥；（3）晒种将筛选储出的种子进在日光下晾晒6‑8h；（4）催芽将黄瓜种子放在40‑60℃的温水中进行搅拌，大约进行10‑12min，等到水温降到28‑30℃时，将种子浸泡4‑6h，洗干净后进行催芽，要对种子进行反复的搓洗，并用冲洗液浸泡4h，消毒后再进行清洗，去水甩干包好，放在27‑30℃的温度下进行催芽；（5）育苗种子在土壤中种植的深度为1.5cm，种子之间间距为2cm，播种完成后覆盖地膜，使用人工方法控制保温棚内的温度白天在28~30 ℃，晚间不低于2 0 ℃；（6）移栽定植定值时夜温5‑15℃，表层土壤温度高于12℃，定值的密度确保4000－4500株/亩，大小行定植，小行距40cm，大行距80cm，株距25‑30厘米；（7）插架定植10 天后插架，采用花架或者人字形支架，距离根部5~11cm ，沿垄万向拉一条线，每颗黄瓜秧上侧吊一根线；（8）水肥管理进入结瓜期时需及时施加高氮钾肥或尿素.钾肥， 当黄瓜叶片长到12片后浇水两次，在黄瓜藤蔓落地前最好不浇水以减少藤组织含水量，增强藤组织韧性。