[发明专利]一种X射线检测的曝光曲线计算方法在审

专利信息
申请号: 201610504406.2 申请日: 2016-06-27
公开(公告)号: CN106124536A 公开(公告)日: 2016-11-16
发明(设计)人: 安发顺;陈涛 申请(专利权)人: 杭州杭锅工业锅炉有限公司
主分类号: G01N23/04 分类号: G01N23/04
代理公司: 杭州九洲专利事务所有限公司 33101 代理人: 翁霁明
地址: 310004 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种X射线检测的曝光曲线计算方法,所述曝光曲线计算方法是:(一)基础参数获得;利用相关的器材获取基础参数,具体获取基础参数的步骤是:a)分别选定不同管电压,采用较大曝光量和较小曝光量,焦距F0固定,暗室处理过程全部固定,拍摄阶梯试块,获得两组不同管电压的系列底片,用黑度计测定获得透照厚度与对应黑度的两组每个管电压不同曝光量的系列数据,绘制曲线图;b)选定一基准黑度值,从曲线图中查出对应于该黑度的透照厚度,得到每个管电压较大和较小曝光量对应的透照厚度值;(二)曝光曲线计算法理论推导,其中利用X射线的衰减公式及互易律公式,经计算最终得到拍摄的底片的基准黑度值3.0时所需要的曝光时间t3'。
搜索关键词: 一种 射线 检测 曝光 曲线 计算方法
【主权项】:
一种X射线检测的曝光曲线计算方法,其特征在于所述曝光曲线计算方法是:(一)基础参数获得;利用如下器材获取基础参数:所需制作曲线的x射线发生器、装有胶片的暗袋若干、射线用阶梯试块1块、垫板(10mm厚为宜)1~3块、卷尺1把、黑度计1台;获取基础参数的步骤:a)分别选定不同管电压(V'、V″、V″'……),采用较大曝光量(I1't1'、I1″t1″、I1″'t1″'….)和较小曝光量(I2't2'、I2″t2″、I2″'t2″'),焦距F0固定,暗室处理过程全部固定,拍摄阶梯试块,获得两组不同管电压的系列底片,用黑度计测定获得透照厚度与对应黑度的两组每个管电压不同曝光量的系列数据,绘制若干D‑T曲线图;b)选定一基准黑度值,如3.0,从D‑T曲线图中查出对应于该黑度的透照厚度,得到每个管电压较大和较小曝光量对应的透照厚度值(T1'、T2';T1″、T2″;T1″'、T2″'….);(二)曝光曲线计算法理论推导;曝光曲线是基于射线的衰减公式及互易律公式绘制而成的,其中:c)衰减公式I=I0e^(‑μT)                        ……………………①I……透过工件后的射线强度  I0……初始射线强度μ……衰减系数  T……透照厚度注:射线强度只与管电流有关,初始射线强度I0即为管电流d)互易律公式E=t1=I2t2=I3t3=……   ……………………②E……曝光量  I……到达胶片处的射线强度  t……曝光时间注:互易律是光化学反应的一条基本定律,它指出:决定光化学反应产物质量(对射线照相而言,即为底片的黑度)的条件,当光的辐射能量一定时(对于射线照相而言,既射线的管电压一定),只与总的曝光量相关,即取决于辐射强度和时间的乘积;e)对于同一管电压V',a)和b)得到的已知的条件有:I1't1'、T1'、I2't2'、T2;由式①和式②得:I1't1'e^(‑μT1')=I2't2'e^(‑μT2')=I3't3'e^(‑μT3')……③I3't3'……实际检测时使用的曝光量T3'……实际检测时射线的透照厚度由③式得:μ=ln(I1't1'/(I2't2'))/(T1'‑T2')t3'=I1't1'e^(μ(T3'‑T1'))/I3'=I1't1'e^(ln(I1't1'/(I2't2'))(T3'‑T1')/(T1'‑T2'))/I3'=I1't1'(I1't1'/(I2't2'))^((T3'‑T1')/(T1'‑T2'))/I3'或t3'=I2't2'(I1't1'/(I2't2'))^((T3'‑T2')/(T1'‑T2'))/I3'到此得,使用管电压V',管电流I3',焦距F0,透照厚度为T3',为得到拍摄的底片的黑度为选定黑度值3.0时所需要的曝光时间t3'。
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