[发明专利]边缘曝光装置和方法有效
申请号: | 201610506802.9 | 申请日: | 2016-06-30 |
公开(公告)号: | CN107561864B | 公开(公告)日: | 2019-10-25 |
发明(设计)人: | 杨金国;唐文力;王刚;郎新科;郑教增 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/027;H01L21/66 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种边缘曝光装置和方法,该装置包括:整机框架、安装在所述整机框架上的用于对硅片进行边缘曝光的边缘曝光单元;用于对硅片定心、定向并配合所述边缘曝光单元完成边缘曝光操作的预对准单元;用于存储、检测硅片的片库单元;用于硅片搬运的机械手;以及用于边缘曝光装置的各工作单元的主控单元;其中所述边缘曝光单元与所述预对准单元共用工作台。本发明配备的预对准单元、边缘曝光单元共用工作台,结构紧凑;本发明的预对准单元、边缘曝光单元分别设置有两组,生产效率高。 | ||
搜索关键词: | 边缘 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种边缘曝光装置,包括:整机框架、安装在所述整机框架上的用于对硅片进行边缘曝光的边缘曝光单元;用于对硅片定心、定向并配合所述边缘曝光单元完成边缘曝光操作的预对准单元;用于存储、检测硅片的片库单元;用于硅片搬运的机械手;以及用于边缘曝光装置的各工作单元的主控单元;其中,所述边缘曝光单元与所述预对准单元共用工作台;所述边缘曝光单元包括:沿光传播方向设置的光源、光纤、匀光单元以及曝光组件;所述曝光组件包括:运动切换调整机构,用于实现不同规格硅片的曝光工位的切换;曝光镜头,安装在所述运动切换调整机构上,用于对硅片进行边缘曝光;绝对光强度检测机构,安装在所述运动切换调整机构上,用于对曝光区域的光强度进行校对检验;曝光计量检测机构,安装在所述运动切换调整机构上,实现曝光过程中曝光照度的监控;以及光阑切换机构,位置与所述曝光镜头对应;所述运动切换调整机构包括:运动模组安装组件、安装在运动模组安装组件上的平面运动模组、分别与所述平面运动模组连接的运动拖链组件和模组转接板,所述曝光镜头安装在所述模组转接板上,所述模组转接板具有水平方向X轴和Y轴的移动自由度。
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