[发明专利]一种具有离子截留性能的还原-氧化石墨烯修饰陶瓷膜

摘要

本发明公开了一种具有高效离子截留性能的纳米还原‑氧化石墨烯涂层修饰陶瓷膜，该方法采用改进的Hummer法，以微晶石墨为主要原料，制备氧化石墨烯；再采用热还原工艺，获得还原‑氧化石墨烯；将上述纳米还原‑氧化石墨烯超声处理后形成的分散液作为涂覆修饰原料，采用负压抽滤涂覆和热处理工艺，对陶瓷膜进行修饰，从而获得结合牢固、导电的还原‑氧化石墨烯修饰陶瓷膜；最后对上述还原‑氧化石墨烯修饰陶瓷膜的顶/底表面进行被银网并连接导线，制成膜元件。该膜在外电场的辅助作用下，对溶液中的离子具有较高的离子截留率和渗透通量等优良特性，从而拓宽了陶瓷膜的应用领域，同时，本发明具有工艺简单、成本低廉、操作条件易控等优点。

主权项

1.一种具有离子截留性能的纳米还原‑氧化石墨烯修饰陶瓷膜，其特征在于：包括以下步骤：步骤一：采用改进的Hummer法，以微晶石墨为原料，制备氧化石墨烯；步骤二：采用热还原工艺，在200～300℃下对步骤一制备的氧化石墨烯进行还原2～4小时，获得电导率为100～150 s/m的还原‑氧化石墨烯；步骤三：将步骤二获得的还原‑氧化石墨烯在300～600 W超声处理2～4小时后，形成浓度为0.1～0.5 wt%的分散液，以该分散液为修饰原料，采用负压抽滤涂覆工艺对陶瓷膜孔表面进行涂覆修饰，然后在200～300℃下烘干2～4小时，获得结合牢固、导电的还原‑氧化石墨烯修饰陶瓷膜；步骤四：对步骤三修饰后的陶瓷膜的顶/底表面进行被银网并连接导线，并将导线连接外电源。