[发明专利]一种蒸镀坩埚及蒸发源装置有效

专利信息
申请号: 201610509433.9 申请日: 2016-06-30
公开(公告)号: CN106148899B 公开(公告)日: 2018-05-18
发明(设计)人: 杨一帆 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例提供一种蒸镀坩埚及蒸发源装置,涉及蒸镀技术领域,相对现有技术既可避免蒸镀过程中余留在坩埚主体底部的待蒸镀材料因多次循环加热而劣化变质,又可以避免蒸镀过程中出现的喷溅现象。该蒸镀装置包括:外坩埚和内坩埚,所述内坩埚嵌于所述外坩埚内;所述外坩埚包括外坩埚主体和盖在所述外坩埚主体的开口处的第一上盖;所述第一上盖设有出射孔;所述内坩埚包括内坩埚主体和盖在所述内坩埚主体的开口处的第二上盖;所述内坩埚主体的侧壁底部设置有多个第一通孔;其中,所述内坩埚主体和所述外坩埚主体的侧壁之间具有间隙。用于显示面板的制造。
搜索关键词: 一种 坩埚 蒸发 装置
【主权项】:
1.一种蒸镀坩埚,其特征在于,包括外坩埚和内坩埚,所述内坩埚嵌于所述外坩埚内;所述外坩埚包括外坩埚主体和盖在所述外坩埚主体的开口处的第一上盖;所述第一上盖设有出射孔;所述内坩埚包括内坩埚主体和盖在所述内坩埚主体的开口处的第二上盖;所述内坩埚主体的侧壁底部设置有多个第一通孔;其中,所述内坩埚主体和所述外坩埚主体的侧壁之间具有间隙,所述第一上盖和所述第二上盖之间具有间隙。
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