[发明专利]处理目标改变装置和系统，成像系统及成像方法有效
| 申请号： | 201610509520.4 | 申请日： | 2016-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN106313919B | 公开（公告）日： | 2019-05-03 |
| 发明（设计）人： | 大岛享;松本博好 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | B41J29/393 | 分类号： | B41J29/393;B41J2/07;B41J3/44;B41M5/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张祥;王增强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种处理目标改变装置，其被构造为通过放电改变被输送的处理目标。处理目标改变装置包括：亲水化单元，其构造为在处理目标(20)上执行亲水化处理；以及测量单元，其被构造为测量从亲水化处理的处理目标反射的光的反射光谱的二维分布。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 目标 改变 装置 系统 成像 方法 | ||
【主权项】：
1.一种处理目标改变装置，该处理目标改变装置被构造为通过放电改变被输送的处理目标，所述处理目标改变装置包括：亲水化单元，该亲水化单元被构造为在所述处理目标上执行亲水化处理；以及测量单元，该测量单元被构造为测量从所述亲水化处理的处理目标反射的光的反射光谱的二维分布，其中所述反射光谱的值被变换为色调值以从所述反射光谱的二维分布生成可视化的图像，处理目标上执行的亲水化处理的均匀性是基于生成的可视化的图像进行估计的，以及所述亲水化单元是根据估计的结果进行控制的。
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