[发明专利]阵列基板、反射式显示装置及阵列基板的制作方法有效
| 申请号： | 201610509601.4 | 申请日： | 2016-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN105911691B | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | 王志东 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B26/08 | 分类号： | G02B26/08 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种阵列基板、反射式显示装置及阵列基板的制作方法，以提高反射式显示装置的显示响应速度，提升显示品质，并简化其生产工艺。阵列基板包括阵列排布的多个像素单元，每个像素单元包括具有开关元件的基底、位于基底前侧并与开关元件电连接的MEMS，以及位于MEMS前侧的全反射透镜，其中：全反射透镜的全反射面朝向MEMS设置；MEMS具有第一工作状态和第二工作状态，包括吸光柔性层，当MEMS在第一工作状态时，吸光柔性层包裹于全反射透镜的全反射面，当MEMS在第二工作状态时，吸光柔性层与全反射透镜的全反射面相间隔。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列基板 全反射透镜 反射式显示装置 柔性层 吸光 开关元件 全反射面 像素单元 基底 面相间隔 显示品质 阵列排布 电连接 全反射 生产工艺 制作 响应 | ||
【主权项】：
1.一种阵列基板，应用于反射式显示装置，其特征在于，包括阵列排布的多个像素单元，每个像素单元包括具有开关元件的基底、位于基底前侧并与开关元件电连接的微机电系统，以及位于所述微机电系统前侧的全反射透镜，其中：所述全反射透镜的全反射面朝向所述微机电系统设置；所述微机电系统具有第一工作状态和第二工作状态，所述微机电系统包括吸光柔性层，当所述微机电系统在第一工作状态时，吸光柔性层包裹于全反射透镜的全反射面，当所述微机电系统在第二工作状态时，吸光柔性层与全反射透镜的全反射面相间隔。
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