[发明专利]弹性波装置有效
| 申请号： | 201610512603.9 | 申请日： | 2011-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN106209007B | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 木户俊介;岩本英树;神藤始;渡边宗久 | 申请（专利权）人： | 株式会社村田制作所 |
| 主分类号： | H03H3/10 | 分类号： | H03H3/10;H03H9/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 薛凯 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供能对应高频且能提高Q值的弹性波装置。本发明的弹性波装置(1)中，在支撑基板(2)上层叠有进行传播的体波声速比在压电膜(5)传播的弹性波声速高的高声速膜(3)，在高声速膜(3)上，层叠有进行传播的体波声速比在压电膜(5)传播的体波声速低的低声速膜(4)，在低声速膜(4)上层叠有上述压电膜(5)，且在压电膜(5)的一面层叠有IDT电极(6)。 | ||
| 搜索关键词： | 弹性 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种弹性波装置，具有压电膜，所述弹性波装置具备：高声速支撑基板；低声速膜，其层叠于所述高声速支撑基板上；所述压电膜，其层叠于所述低声速膜上；以及IDT电极，其形成于所述压电膜的一面，所述压电膜，以LiTaO3、LiNbO3、ZnO、A1N或PZT的任意一者作为材料，所述高声速支撑基板，以硅作为材料，所述低声速膜，以如下任意一者作为材料：氧化硅、玻璃、氮氧化硅、氧化钽、或者在氧化硅添加了氟或碳或硼而成的化合物、或者以这各个材料为主成分的材料，在将以IDT电极的电极周期所确定的弹性波的波长设为λ时，所述低声速膜的膜厚被设为0.1λ～0.5λ的范围。
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