[发明专利]接近式曝光和光配向一体装置、光配向方法及曝光方法有效
| 申请号： | 201610512887.1 | 申请日： | 2016-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN107561871B | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | 覃宗伟;张俊 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/1337 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种接近式曝光和光配向一体装置、光配向方法及曝光方法。一种接近式曝光和光配向一体装置，包括光源、依次置于光源光路方向的：光反射滤光机构、蝇眼透镜组、球面反射镜、反射镜、掩模台以及带有能量传感器的工件台；在蝇眼透镜组和掩膜台之间还设置有起偏模块，起偏模块中包括透光孔工位、置有旋转机构的起偏工位以及用于将起偏工位和透光孔工位切换置于光源光路中心的移动机构；曝光作业时，将透光孔工位置于光源光路中心，光配向作业时，将起偏工位置于光源光路中心，且将能量传感器移动至光路中心，旋转调节旋转机构。通过本发明可以实现同一接近式曝光设备同时具备曝光和配向功能，节省空间和成本。 | ||
| 搜索关键词： | 接近 曝光 一体 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备（集团）股份有限公司，未经上海微电子装备（集团）股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610512887.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
