[发明专利]流体静压力的加压装置在审
| 申请号： | 201610517124.6 | 申请日： | 2016-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN105928777A | 公开（公告）日： | 2016-09-07 |
| 发明（设计）人： | 丁琨;窦秀明;孙宝权 | 申请（专利权）人： | 中国科学院半导体研究所 |
| 主分类号： | G01N3/02 | 分类号： | G01N3/02;G01N3/18 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 汤保平 |
| 地址： | 100083 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种流体静压力的加压装置，包括：一圆筒，该圆筒开口朝下，该圆筒的上底部中心有一光学窗口，用于激发光的入射和测量样品信号的收集窗口；一上底座，其位于圆筒内的上底部处；一第一金刚石，其位于圆筒内的上底座的中心处；一第二金刚石，其位于第一金刚石的下方；一垫片，其位于第一金刚石和第二金刚石之间，与金刚石、金刚石紧密接触形成样品室，用于放置样品和红宝石；一活塞，其与圆筒的内径滑动配合；一下底座，该下底座近似T字型，位于第二金刚石的下端，用于支撑第二金刚石。本发明具有体积小、结构简单、砧面调节方便、可放入低温光学恒温器中的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 静压 加压 装置 | ||
【主权项】：
一种流体静压力的加压装置，包括：一圆筒，该圆筒开口朝下，该圆筒的上底部中心有一光学窗口，用于激发光的入射和测量样品信号的收集窗口；一上底座，其位于圆筒内的上底部处；一第一金刚石，其位于圆筒内的上底座的中心处；一第二金刚石，其位于第一金刚石的下方；一垫片，其位于第一金刚石和第二金刚石之间，与金刚石、金刚石紧密接触形成样品室，用于放置样品和红宝石；一活塞，其与圆筒的内径滑动配合；一下底座，该下底座近似T字型，位于第二金刚石的下端，用于支撑第二金刚石。
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