[发明专利]一种光源和投影系统有效
| 申请号： | 201610518166.1 | 申请日： | 2016-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN107561836B | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | 胡飞;侯海雄;李屹 | 申请（专利权）人： | 深圳光峰科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光源和投影系统。一种光源,包括激发光源、受激光提供装置、区域膜片和补光装置，区域膜片设置在激发光和受激光的光路上，包括第一区域和第二区域，第一区域用于透射/反射激发光以形成主路光，反射/透射激发光以形成旁路光，第二区域用于对入射光进行全反射/透射，受激光提供装置设置在主路光的光路上以经主路光照射产生向区域膜片传播的受激光，补光装置设置在旁路光的光路上，用于对旁路光进行匀光处理后产生向区域膜片传播的补充光，补充光经区域膜片后和受激光进行合光。本发明利用旁路光形成一均匀的光束，并使该光束返回区域膜片，通过区域膜片后与受激光进行合光，正好填补受激光中缺失的与激发光光谱相同的那部分光，从而提高了光源输出光的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 膜片 激光 旁路 激发光 透射 主路 光源 补光装置 第二区域 第一区域 提供装置 投影系统 合光 反射 光源输出光 激发光光谱 光束返回 激发光源 光照射 均匀性 全反射 入射光 补充 匀光 传播 填补 | ||
【主权项】：
1.一种光源,其特征在于，包括激发光源、受激光提供装置、区域膜片和补光装置；激发光源用于发射激发光；受激光提供装置用于在激发光照射下产生受激光；所述区域膜片设置在激发光和受激光的光路上，所述区域膜片包括第一区域和第二区域，所述第一区域用于透射部分激发光以形成主路光，并反射部分激发光以形成旁路光，所述第二区域用于对入射光进行全反射，所述受激光提供装置设置在主路光的光路上并偏离旁路光的光路，经主路光激发后产生向区域膜片传播的受激光；所述补光装置设置在旁路光的光路上，用于对旁路光进行匀光处理后产生向区域膜片的第一区域传播的补充光；所述补光装置还包括光收集系统，用于将散射的补充光会聚后入射到区域膜片的第一区域，所述补充光在经区域膜片的第一区域后与受激光进行合光。
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