[发明专利]利用编码孔径进行的阴影掩模的对准在审
申请号: | 201610520508.3 | 申请日: | 2011-05-23 |
公开(公告)号: | CN106148891A | 公开(公告)日: | 2016-11-23 |
发明(设计)人: | 田村信彦 | 申请(专利权)人: | 阿德文泰克全球有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/54 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 顾丽波;李荣胜 |
地址: | 英属维尔京*** | 国省代码: | 维尔京群岛;VG |
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摘要: | 在一种阴影掩模‑衬底对准的方法中,提供了一种衬底,其包括具有多个相互隔开的条块的格栅,还提供了一种阴影掩模,其包括具有多个相互隔开的条块的格栅。还提供了一种光源‑光接收器对,该光源‑光接收器对在其间限定了一条光路径。将衬底的格栅和阴影掩模的格栅置于光路径中。此后,调整衬底、阴影掩模或二者的方位,以调整衬底的格栅、阴影掩模的格栅或二者的位置,直到光路径上预定的光量或预定量范围的光通过所述格栅,并被光接收器接收。 | ||
搜索关键词: | 利用 编码 孔径 进行 阴影 对准 | ||
【主权项】:
一种阴影掩模‑衬底对准的方法,包括:(a)提供一种衬底,其包括具有多个相互隔开的条块的格栅,其中由间隙将所述衬底的所述格栅的每对相互隔开的条块分隔开;(b)提供一种阴影掩模,其包括具有多个相互隔开的条块的格栅,其中由穿过所述阴影掩膜的间隙将所述阴影掩膜的所述格栅的每对相互隔开的条块分隔开;(c)将所述衬底的所述格栅定位为与所述阴影掩膜的所述格栅粗略对准;以及(d)在步骤(c)后,对所述衬底、所述阴影掩模或二者进行精细定位,直到所述衬底和所述阴影掩模的所述格栅的各条块分别与所述阴影掩模和所述衬底的所述格栅的各间隙重叠预定量为止。
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