[发明专利]利用编码孔径进行的阴影掩模的对准在审

专利信息
申请号: 201610520508.3 申请日: 2011-05-23
公开(公告)号: CN106148891A 公开(公告)日: 2016-11-23
发明(设计)人: 田村信彦 申请(专利权)人: 阿德文泰克全球有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/54
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 顾丽波;李荣胜
地址: 英属维尔京*** 国省代码: 维尔京群岛;VG
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 在一种阴影掩模‑衬底对准的方法中,提供了一种衬底,其包括具有多个相互隔开的条块的格栅,还提供了一种阴影掩模,其包括具有多个相互隔开的条块的格栅。还提供了一种光源‑光接收器对,该光源‑光接收器对在其间限定了一条光路径。将衬底的格栅和阴影掩模的格栅置于光路径中。此后,调整衬底、阴影掩模或二者的方位,以调整衬底的格栅、阴影掩模的格栅或二者的位置,直到光路径上预定的光量或预定量范围的光通过所述格栅,并被光接收器接收。
搜索关键词: 利用 编码 孔径 进行 阴影 对准
【主权项】:
一种阴影掩模‑衬底对准的方法,包括:(a)提供一种衬底,其包括具有多个相互隔开的条块的格栅,其中由间隙将所述衬底的所述格栅的每对相互隔开的条块分隔开;(b)提供一种阴影掩模,其包括具有多个相互隔开的条块的格栅,其中由穿过所述阴影掩膜的间隙将所述阴影掩膜的所述格栅的每对相互隔开的条块分隔开;(c)将所述衬底的所述格栅定位为与所述阴影掩膜的所述格栅粗略对准;以及(d)在步骤(c)后,对所述衬底、所述阴影掩模或二者进行精细定位,直到所述衬底和所述阴影掩模的所述格栅的各条块分别与所述阴影掩模和所述衬底的所述格栅的各间隙重叠预定量为止。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于阿德文泰克全球有限公司,未经阿德文泰克全球有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610520508.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top