[发明专利]耐磨涂层的制备方法在审
申请号: | 201610522067.0 | 申请日: | 2016-07-05 |
公开(公告)号: | CN106191790A | 公开(公告)日: | 2016-12-07 |
发明(设计)人: | 赵升升;梅海娟;程毓 | 申请(专利权)人: | 深圳职业技术学院 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C14/06 |
代理公司: | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人: | 王小青 |
地址: | 518055 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种耐磨涂层的制备方法,用于在基片表面制备硬质涂层,所述方法包括以下步骤:选用预定的尺寸和性能的基片;对基片的待沉积表面进行清洗干燥;在电弧离子镀膜设备的真空室内对基片的待沉积表面进行溅射清洗;向真空室内供入惰性气体和N2,采用电弧离子镀技术在基片的表面上沉积氮化物硬质涂层,在沉积过程中,梯度增加或者循环梯度增加N2的流量,以便调整硬质涂层内的残余应力;对基片上的硬质涂层进行真空退火,最终获得大厚度的耐磨涂层。通过梯度增加或循环增加N2流量,有效降低了大厚度涂层的残余应力;涂层具有更好的抗划痕能力和断裂韧性。 | ||
搜索关键词: | 耐磨 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种耐磨涂层的制备方法,用于在基片表面制备硬质涂层,其特征在于,所述方法包括以下步骤:S101、选用预定的尺寸和性能的基片;S102、对基片的待沉积表面进行清洗干燥;S103、在电弧离子镀膜设备的真空室内对基片的待沉积表面进行溅射清洗;S104、向真空室内供入惰性气体和N2,采用电弧离子镀技术在基片的表面上沉积氮化物硬质涂层,在沉积过程中,梯度增加或者循环梯度增加N2的流量,以便调整硬质涂层内的残余应力;S105、对基片上的硬质涂层进行真空退火,最终获得大厚度的耐磨涂层。
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