[发明专利]一种双入射左手材料结构有效
申请号: | 201610522215.9 | 申请日: | 2016-07-05 |
公开(公告)号: | CN105958209B | 公开(公告)日: | 2022-09-02 |
发明(设计)人: | 田子建;姜泊帆 | 申请(专利权)人: | 中国矿业大学(北京) |
主分类号: | H01Q15/00 | 分类号: | H01Q15/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及左手材料,特别涉及一种二维左手材料结构。所述的左手材料结构包括介质基板和覆在所述介质基板上的金属条,所述的金属条上刻蚀有两组相互交叉的金属线,每一组相互交叉的金属线均由两条金属线组成,所述的两条金属线反向对称刻蚀在介质基板的两侧,且位于介质基板同一侧的金属线中,两条金属线组成“等腰梯形”状结构。所述的左手材料其结构简单,可实现二维左手特性,克服了传统左手材料的复杂性和入射方向的局限性。改变“等腰梯形”结构上底的尺寸参数,能够在不同的频域内实现二维左手特性,从而满足各种工作频带的实用要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 入射 左手 材料 结构 | ||
【主权项】:
一种双入射型电磁超材料结构,所述的电磁超材料结构包括介质基板和覆刻在所述介质基板上的金属条,其特征在于所述的金属条之间刻蚀有两组金属线,每组金属线由两条金属线组成,所述的两组金属线反向对称刻蚀在介质基板的两侧,且位于介质基板同一侧的金属线与金属条组成“等腰梯形”状结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国矿业大学(北京),未经中国矿业大学(北京)许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610522215.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种有机压电薄膜极化方法
- 下一篇:带有快速连接器的相机云台