[发明专利]一种折返连续型多模式高光谱成像系统

摘要

本发明公开了一种折返连续型多模式高光谱成像系统，由固定支撑件、传送控制模块、光源模块、光谱成像模块和控制与数据处理中心模块组成。该高光谱多模式成像系统可以实现点散射、反射、透射和交互作用成像模式，从而实现待测样本多种质量与安全指标的同时获取，为试验研究和工业生产提供更加精准的决策。此外，通过更换光源可以实现荧光高光谱成像技术，结合显微成像技术还能实现折返连续型多模式高光谱显微成像系统。在该发明的基础上，采用频闪光源或半导体蚀刻多光谱芯片可以构建对应的多光谱成像系统，满足工业上高通量检测的需求。

主权项

1.一种折返连续型多模式高光谱成像系统，其特征在于，该系统包括固定支撑件、传送控制模块、光源模块、光谱成像模块和控制与数据处理中心模块，通过折返移动方式实现前进过程中不同模式的高光谱成像，其中：a）所述固定支撑件包括机架(1)、平板(2)、支架(5)、横梁(7)、固定板(8)、可调节支架(13)和连接横梁(18)，平板(2)固定于机架（1）上；支架（5）上设有滑槽，并对称设于平板（2）两侧；两支架（5）顶部固定有连接横梁(18)，连接横梁(18)上设有固定板（8）；横梁(7)设于固定板（8）上；可调节支架(13)设于平板（2）底部；b）所述传送控制模块包括导轨(3)、移动样品台(4)和位移与光控传感器(15)，导轨（3）设于平板（2）上；移动样品台（4）设于导轨（3）上；位移与光控传感器(15) 设于平板（2）前后两端；位移与光控传感器（15）控制移动样品台（4）的折返路径和切换光源模块的开启与关闭；移动样品台（4）的左右两端均设置位移与光控传感器（15）；c）所述光源模块包括反射线光源(10)、点散射光源(12)、漫透射线光源(14)、交互作用线光源(11)、可移动遮光板(6)和光源发生单元，可移动遮光板(6)设于支架(5)的滑槽内；光源发生单元放置于机架（1）旁，并通过光纤分别与反射线光源(10)、点散射光源(12)、漫透射线光源(14)及交互作用线光源(11)相连；漫透射线光源(14)固定于可调节支架(13)上；反射线光源(10)对称设于横梁(7)底部；点散射光源(12)固定于反射线光源(10)上；交互作用线光源(11)设于横梁(7)底部；所述光源发生单元包括光源发生器（19）及遮光板(20)，遮光板(20)设于光源发生器（19）上；d）所述光谱成像模块为光谱成像相机或以半导体蚀刻为核心技术的多光谱成像相机（9），固定于横梁(7)上；e）所述控制与数据处理中心模块（16）为PC机或其他微处理芯片，通过有线传输方式与光谱成像模块进行高光谱图像数据通讯；通过无线或有线传输方式与位移与光控传感器(15)进行数据通讯；f）所述折返移动，其路径为三次：第一次移动进行点散射和交互作用两个成像模式，第二次移动进行反射成像模式，第三次移动进行漫透射成像模式。