[发明专利]一种可呼吸石墨烯膜在检测光强稳定性中的应用有效
| 申请号： | 201610523338.4 | 申请日： | 2016-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN106185893B | 公开（公告）日： | 2017-12-26 |
| 发明（设计）人： | 高超;彭蠡 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | C01B32/184 | 分类号： | C01B32/184;G01J1/42;C09K3/00;H05K9/00 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司33200 | 代理人： | 邱启旺 |
| 地址： | 310058 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种可呼吸石墨烯膜在检测光强稳定性中的应用，所述应用通过检测可呼吸石墨烯膜的电磁屏蔽性能来实现，可呼吸石墨烯膜的电磁屏蔽性能数据越不稳定，光强稳定性越低。具有导热性能(1800‑2600 W/mK)的可呼吸石墨烯膜在光照下快速升温膨胀，屏蔽效能提高。通过该石墨烯膜可实现对光强稳定性的高灵敏度检测。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 呼吸 石墨 检测 稳定性 中的 应用 | ||
【主权项】：
一种可呼吸石墨烯膜在检测光强稳定性中的应用，其特征在于,所述应用通过检测可呼吸石墨烯膜的电磁屏蔽性能来实现，可呼吸石墨烯膜的电磁屏蔽性能数据越不稳定，光强稳定性越低；所述可呼吸石墨烯膜由平面取向的平均尺寸大于100μm的石墨烯片通过ππ共轭作用相互搭接而成，在未搭接处，石墨烯片与片之间形成空腔，腔壁上有褶皱；且其中包含由1‑4层石墨烯片构成的石墨烯结构；且石墨烯片的缺陷极少，其ID/IG＜0.01。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学，未经浙江大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610523338.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
