[发明专利]一种高阶任意层HDI板制作工艺在审

专利信息
申请号: 201610524247.2 申请日: 2016-07-06
公开(公告)号: CN106061140A 公开(公告)日: 2016-10-26
发明(设计)人: 陶应辉;李旭 申请(专利权)人: 四川海英电子科技有限公司
主分类号: H05K3/46 分类号: H05K3/46
代理公司: 成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218 代理人: 袁英
地址: 629000 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种高阶任意层HDI板制作工艺,它包括以下步骤:S1、靶标的制作;S2、在双面基板上压合第一增层;S3、根据步骤S2中所述第一靶孔(3)所在位置在第一增层L2和第一增层L5上进行图像转移;S4、在双面基板上压合第二增层;S5、根据步骤S4中的第二靶孔(4)所在位置在第二增层L1和第二增层L6上进行图像转移,从而实现了六阶HDI板的制作;S6、当需要制造更高阶HDI板时,只需在双面基板上再开设数个靶标即可实现任意高阶HDI板的制作。本发明的有益效果是:制作工艺简单、可有效降低高阶HDI印刷电路板制作过程中可能出现的对位差错、提高产品质量、产品可靠性高。
搜索关键词: 一种 任意 hdi 制作 工艺
【主权项】:
一种高阶任意层HDI板制作工艺,其特征在于:它包括以下步骤:S1、靶标的制作,选用双面基板,双面基板的上表面和下表面分别以L3和L4代表,在L3和L4上制作第一靶标,在双面基板的四个角落处均制作出一个第一靶标(1)和一个第二靶标(2);S2、在双面基板上压合第一增层,将第一增层L2放置于L3上,同时将第一增层L5放置于L4上,以第一靶标(1)为基准利用台钻从上往下顺次钻第一增层L2、L3、L4以及第一增层L5,从而在第一增层L2、双面基板和第一增层L5上形成第一靶孔(3),实现了将第一增层L2和第一增层L5压合在双面基板上;S3、根据步骤S2中所述第一靶孔(3)所在位置在第一增层L2和第一增层L5上进行图像转移;S4、在双面基板上压合第二增层,当步骤S3结束后,将第二增层L1放置于第一增层L2上表面,同时将第二增层L6放置于第一增层L5的下表面,以第二靶标(2)为基准利用台钻从上往下顺次钻第二增层L1、第一增层L2、L3、L4、第一增层L5以及第二增层L6,从而在第二增层L1、第一增层L2、双面基板、第一增层L5以及第二增层L6上形成第二靶孔(4),实现了将第二增层L1和第二增层L6压合在双面基板上;S5、根据步骤S4中的第二靶孔(4)所在位置在第二增层L1和第二增层L6上进行图像转移,从而实现了六阶HDI板的制作;S6、当需要制造更高阶HDI板时,只需在双面基板上再开设数个靶标即可实现任意高阶HDI板的制作。
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