[发明专利]等离子处理装置

摘要

发明构思的示例性实施方式提供了一种等离子处理装置，所述等离子处理装置具有基底支撑单元、等离子单元、第一旋转驱动单元以及气体供应部分。基底支撑单元支撑基底。等离子单元生成等离子并将等离子提供至基底。第一旋转驱动单元联接至等离子单元以相对于基底支撑单元旋转等离子单元。气体供应部分将源气体供应至等离子单元。等离子单元包括本体、位于本体中的第一电极、位于本体中并面对第一电极的第二电极，以及位于第一电极与第二电极之间以在其中流过源气体的管路。

主权项

一种等离子处理装置，包括：基底支撑件，配置为对基底进行支撑；等离子发生器，配置为生成等离子并向所述基底提供所述等离子；第一旋转驱动器，联接至所述等离子发生器，以相对于所述基底支撑件旋转所述等离子发生器；以及气体供应器，配置为将源气体供应至所述等离子发生器，其中，所述等离子发生器包括：本体；第一电极，位于所述本体中；第二电极，位于所述本体中并且面对所述第一电极；以及管路，位于所述第一电极与所述第二电极之间，以在其中流过所述源气体。